Новый стандарт передачи видео HDMI 2.2Эволюция TSMC в сторону передовых узлов

Современный ландшафт производства полупроводников четко разделен на «зрелые» и «передовые» технологии. Для TSMC эта граница стала определяющей: сегодня около трех четвертей всей выручки компании генерируют чипы, созданные по техпроцессам от 7 нм и ниже. Эта тенденция к концентрации ресурсов на переднем крае литографии лишь усиливается, что приводит к закономерному сокращению объемов выпуска продукции на старых узлах.
Наиболее ярко этот процесс проявляется на предприятии Fab 15A. С начала текущего года объем обработки кремниевых пластин по 28-нм технологии здесь сократился более чем на 25%. Такая динамика объясняется глобальной перестройкой площадки: Fab 15A переводится на выпуск 4-нм продукции. Поскольку оборудование для старых техпроцессов физически не способно обеспечить точность, необходимую для 4-нм чипов, происходит масштабная замена производственных линий. В непосредственной близости находится Fab 15B, которая уже закрепила за собой статус основного хаба по выпуску 7-нм компонентов.
Масштабы сокращения впечатляют: если в начале года совокупный выпуск 28-нм пластин на всех подходящих заводах составлял около 200 000 единиц в месяц, то к июню этот показатель упал до 150 000. Параллельно с этим TSMC форсирует строительство комплекса Fab 25, где будет развернуто производство по ультрасовременному техпроцессу A14. Работы на корпусе P1 уже перешли в активную фазу, что подчеркивает приоритеты компании.
Стратегия TSMC заключается в постепенном вытеснении клиентов с 28-нм узла на более эффективный 12-нм процесс, в то время как основные инвестиции направляются в разработку A14, 2-нм технологий, а также в развитие кремниевой фотоники и передовых методов упаковки чипов. Последнее особенно критично, так как при достижении физических пределов масштабирования транзисторов именно инновации в 3D-компоновке и оптической передаче данных станут главными рычагами повышения производительности.
Внутри сегмента 28-нм производства также происходит жесткая сегрегация по принципу прибыльности. Сегодня этот техпроцесс используется TSMC преимущественно для создания подложек в многокристальных системах (chiplets), где требования к плотности транзисторов ниже, чем в основных вычислительных ядрах. Производство дискретных логических компонентов по этой технологии сворачивается, что фактически освобождает рыночную нишу для других игроков.
Заказы на выпуск стандартных 28-нм чипов все чаще переходят к UMC и VIS. При сохранении текущих темпов UMC имеет все шансы стать мировым лидером в этом сегменте, одновременно расширяя свои мощности по 22-нм техпроцессу.
Особое место в этой экосистеме занимает компания VIS, тесно связанная с TSMC капиталом. VIS фокусируется на обработке пластин типоразмера 200 мм, в то время как TSMC планомерно отказывается от этого формата в пользу 300-мм стандартов. Новое предприятие VIS в Сингапуре уже спроектировано под инфраструктуру 300 мм, что позволит плавно перехватывать заказы, уходящие с конвейеров TSMC. Согласно долгосрочному плану, в течение ближайших пяти лет до 80% профильных мощностей TSMC в этом сегменте будут переданы под управление VIS, которая на данный момент способна обрабатывать до 5 миллионов 200-мм пластин ежегодно.

